編輯此資訊 : 代替鍍鉻添加劑Cr3+添加劑稀土類-電鍍加工

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上海新增金屬表面處理有限公司主要從事電鍍加工，鍍銅鍍鎳鍍鉻，鍍硬鉻，鍍化學鎳，鍍鋅合金生產廠家，價格實惠，質量有保障。接下來為大家講述—— 代替鍍鉻添加劑Cr3+添加劑—稀土類： Cr3+的存在有利于改善鍍鉻流質的分散能力，促進低電流密度區的電沉積。缺少鉻層易結瘤，硬度低，電沉積速度慢。稀土元素RE一般呈三價，在鍍液中能代替部分Cr3+，因此，稀土鍍鉻要求Cr3+含量低，不含也可以。稀土鍍鉻機理已經發表不少文章，這里就不累贅闡述了。 羥基酸包括醇酸和酚酸，用量小還原性強，能產生Cr3+，也是代替Cr3+的添加劑。n也報道使用溴化物，可以有效改善鍍液分散能力，但由于存在著釋放大量鹵素氣體的缺陷，阻礙了這類鍍液的推廣應用。 上海電鍍廠家指出，稀土陽離子也是應用很廣的一類鍍鉻添加劑，至早將稀土引入鍍鉻的是美國的 Romanowshi 等。他們在1976年獲得了使用稀土氟化物鍍鉻的專利，國內于80～90年代對這方面進行了大量研究，開發出一批比較有價值的工藝。稀土陽離子能較好地提高鍍液的均鍍能力，但對深鍍能力無明顯的改善，使用稀土的氟化物可以提高電流效率，但也同時引發了低電流區的腐蝕問題，另外稀土鍍鉻監控比較困難，特別是在鍍硬鍍方面，該工藝還有待進一步完善。 真正比較有希望全面改進鍍鉻性能的是有機或復合型(有機物與陰離子或稀土混用)添加劑。 許多人一直認為，在氧化性很強的鉻酸流質中，尤其是在電解過程中，幾乎沒有什么有機物可以穩定存在，因此限制了這類添加劑的發展。但 Edgan J提出使用鹵化有機酸，特別是鹵化有機二酸如溴化丁二酸、溴化丙二酸等，可以提高鍍液的分散及復蓋能力，據稱此電解液即使在高溫、高電流密度下電解，有機物也不會被氧化。北京航空航天大學胡如南等也進行了相似的工作，并得出了類似的結論——鍍鋅合金廠家友情指出！ 為了達到預期的目的，加入的有機酸或鹵代有機酸的量比較大，一般為幾十克每升，例如 Chessin在含氟化物的鍍鉻液中，加入至高量為32 g/L的鹵代二酸，使鍍液獲得了好的分散及復蓋能力。 有機化合物的加入可以提高陰極電流效率。Hyman Chessin采用有機磺酸為添加劑，以較高的電流效率(大于22%)獲得了結合力良好的光亮鍍層，并避免了低電流腐蝕問題，添加的有機磺酸要求S/C≥1/3，加入量為1～18 g/L。Anthony D Barnyi提出，適量的氨基乙酸、氨基丙酸等可以提高陰極電流效率，如在CrO3 200 g/L,H2SO4 2 g/L的鍍液中加入2.5 g/L的氨基乙酸，在40 ℃下電鍍2 h，陰極電流效率可達21.45%。另外含有機添加劑的鍍液所得鍍層一般硬度較高。Laition在含甲醛、蟻酉或乙二醛的鍍液中，得到的鍍層硬度為950～ 1 000 HV，經 600 ℃熱處理1 h，鍍硬鉻硬度可達1 600～1 800 HV，并且鍍層耐鹽腐蝕的能力是普通鉻鍍層的3倍。 將有機陰離子與有機添加劑復合使用，有時會取得很好的效果。Chessin將碘酸鉀、溴化鉀等與有機酸一起合用，得到平滑光亮的鍍層，并且電流效率很高，比較好的有機酸為磺基乙酸、丁二酸、三錄乙酸等，且用量較大，為5～100 g/L。在適當工藝下，陰極電流效率可達50%，不足之處為鉻酸濃度高達800 g/L，并且有機酸含量高，易腐蝕陰極。 美國安美特公司的專利產品也含有復合型添加劑，由磺基乙酸、碘酸鹽及有機氮化物組成，鍍液可不含H2SO4，陰極電流效率至少為20%。 采用有機或復合添加劑的鍍鉻液一般稱為第三代鍍鉻液，目前已經有數種比較成熟的工藝。美國安美特公司的 HEEF25， HEEF40工藝比較有代表性。特別是 HEEF25，電流效率可達 22%～26%，沉積速度為30～80 μm/h，鍍層光亮平滑。其工藝優點在于電流效率高，沉積速度快，且不含氟化物。但其成本較高，在一定程度上會影響其推廣應用。英國 Canning 公司的 Machil 工藝特點與HEEF25相當，陰極電流效率可達26%，鍍層硬度高于1 200 HV，且同樣不含氟化物。國內有關有機添加劑方面的研究報導較少，北京航空航天大學和山西大學進行過一些研究。據資料介紹目前國內至少有五家單位提供了類似于HEEF25的鍍硬鉻工藝。 至新一代鍍鉻添加劑主要采用烷基二磺酸及其鹽，包括甲基二磺酸、甲基二磺酸鈉、甲基二磺酸鉀等為添加劑的主要成分，完全不同于常規鍍鉻和普通混合型催化劑鍍鉻工藝，具有以下特點：1.高電流效率，可達23-29% 　2.高沉積速度，是普通鍍鉻的2-3倍　3.高硬度HV900-1150 　4.高電流密度可達90安培/平方分米　5.對鉛錫、鉛銻合金陽極腐蝕很小，對鍍件在低電流區無腐蝕。一般添加量約為4-10g/L, 每添加100公斤鉻酸酐同時消耗量8-15g烷基二磺酸及其鹽。 在此基礎上，很多添加劑廠商和研究部門以烷基二磺酸及其鹽為主要成分，添加有機物氨基磺酸、含氮雜環化合物等以及無機添加物碘酸鉀，溴酸鉀等等，等到了電流效率27-50%,硬度Hv900-1250的鍍鉻層，將鍍鉻工藝向前推進了一大步。 我司服務： 鍍化學鎳 http://www.shxinzeng.cn

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