編輯此資訊 : 鋁鍍鎳企業(yè)淺談鍍鎳層內(nèi)應(yīng)力

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鍍鎳是通過電解或化學(xué)方法在金屬或某些非金屬上鍍上一層鎳的方法，稱為鍍鎳。鍍鎳分電鍍鎳和化學(xué)鍍鎳。電鍍鎳是在由鎳鹽（稱主鹽）、導(dǎo)電鹽、pH緩沖劑、潤濕劑組成的電解液中，陽極用金屬鎳，陰極為鍍件，通以直流電，在陰極（鍍件）上沉積上一層均勻、致密的鎳鍍層。從加有光亮劑的鍍液中獲得的是亮鎳，而在沒有加入光亮劑的電解液中獲得的是暗鎳。 接下來鋁鍍鎳企業(yè)來為大家講述—— 鍍鎳層內(nèi)應(yīng)力的形成原因 電鍍層內(nèi)應(yīng)力是在金屬離子形成金屬的過程中產(chǎn)生的。為了避免或控制內(nèi)應(yīng)力對鍍層產(chǎn)生的非優(yōu)影響,人們很早就開始對內(nèi)應(yīng)力的形成原因進(jìn)行了研究。然而,由于這一問題的復(fù)雜性,至今仍無完善統(tǒng)一的理論解釋。歸納起來,關(guān)于鍍鎳層內(nèi)應(yīng)力產(chǎn)生的原因主要有以下幾種理論解釋: (1)滲氫理論 在金屬電沉積過程中若有氫析出,它將以氫原子或氫化物的形式存在于鍍層中,氫在鎳中具有很好的擴(kuò)散性,能迅速逸出形成氫分子。氫的逸出導(dǎo)致鍍層收縮形成拉應(yīng)力。這一理論可以較好地解釋陰極大量析氫時,不銹鋼鍍化學(xué)鎳層往往具有較大的拉應(yīng)力。 (2)晶體聚結(jié)理論 電沉積時產(chǎn)生的晶核在成長過程中為了降低表面能而彼此聚結(jié)在一起,因而產(chǎn)生拉應(yīng)力。而在晶核聚結(jié)之前,由于受到基體施加的力而被壓縮,同時晶核生長時的表面張力也有收縮作用,故鍍層出現(xiàn)壓應(yīng)力。這種理論可以說明基體材料的表面取向?qū)﹀冩噷觾?nèi)應(yīng)力的影響。 (3)夾雜理論 電沉積時要獲得沒有雜質(zhì)的純鍍層是非常困難的,雜質(zhì)與鍍層金屬一起沉積或夾雜在晶界上,這使得雜質(zhì)周圍的金屬晶格發(fā)生扭曲,從而產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力。這一理論可以比較好地解釋鍍液中的添加劑對內(nèi)應(yīng)力的影響。 (4)能量過剩理論 金屬鎳具有較高的活化過電位,當(dāng)鎳沉積在基體表面時,將以熱的形式釋放出大量的能量。鍍層原子受熱會使晶體膨脹,當(dāng)它回到正常的“冷原子”時就會產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力。這一理論的證據(jù)是電沉積時,過電位越大,拉應(yīng)力也就越大。但這種理論無法解釋壓應(yīng)力。 (5)位錯理論 位錯是晶格中原子平面相對滑動所產(chǎn)生的線缺陷。由于位錯的邊是沿著空位而取向的,于是就產(chǎn)生了拉應(yīng)力。有機(jī)添加劑若能吸附在空位處,就會影響位錯的生成,從而使內(nèi)應(yīng)力下降。實(shí)際上,位錯理論是上述各種學(xué)說的基礎(chǔ)。 產(chǎn)生鍍層內(nèi)應(yīng)力的幾種理論實(shí)際上彼此之間是互相聯(lián)系、互為補(bǔ)充的。例如:位錯是沉積層中的高能量區(qū),所以能量過剩理論可以看成是位錯理論和聚結(jié)理論的推論。有時,可用一種理論解釋產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力的原因;但在大多數(shù)情況下,只用一種理論解釋是不夠完善的！

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