編輯此資訊 : 直流電琉酸陽極氧化— 陽極氧化廠

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陽極氧化，金屬或合金的電化學氧化。鋁及其合金在相應的電解液和特定的工藝條件下，由于外加電流的作用下，在鋁制品（陽極）上形成一層氧化膜的過程。陽極氧化如果沒有特別指明，通常是指琉酸陽極氧化。 為了克服鋁合金表面硬度、耐磨損性等方面的缺陷，擴大應用范圍，延長使用壽命，表面處理技術成為鋁合金使用中不可缺少的一環(huán)，而陽極氧化技術是目前應用至廣且至成功的。 直流電琉酸陽極氧化—— 陽極氧化廠來為大家娓娓道來 ★氧化膜成長機理 在琉酸電解液中陽極氧化，作為陽極的鋁制品，在陽極化初始的短暫時間內，其表面受到均勻氧化，生成極薄而有非常致密的膜，由于琉酸流質的作用，膜的至弱點（如晶界，雜質密集點，晶格缺陷或結構變形處）發(fā)生局部溶解，而出現(xiàn)大量孔隙，即原生氧化中心，使基體金屬能與進入孔隙的電解液接觸，電流也因此得以繼續(xù)傳導，新生成的氧離子則用來氧化新的金屬，并以孔底為中心而展開，至后匯合，在舊膜與金屬之間形成一層新膜，使得局部溶解的舊膜如同得到“修補”似的。隨著氧化時間的延長，膜的不斷溶解或修補，氧化反應得以向縱深發(fā)展，從而使制品表面生成又薄而致密的內層和厚而多孔的外層所組成的氧化膜。其內層（阻擋層、介電層、活性層）厚度至氧化結束基本都不變，位置卻不斷向深處推移；而外早一定的氧化時間內隨時間而增厚。 ★氧化膜厚度計算 陽極氧化加工生成的氧化膜厚度從理論上可按法拉第第二定律推導的公式進行計算。 σ= Kit 式中σ為陽極氧化膜厚度（μm），I為電流密度（A/dm2），t 為氧化時間（min），K為系數(shù)（當氧化鋁密度γ=kg/立方米則K=0.309）。上述公式計算的前提是以認為通過的電量全用于氧化鋁析出，同時也把氧化鋁及膜的密度視為純凈的氧化鋁密集的值。但實際情況并非完全如此，為了使K值更切合實際，應將電流效率和在這種工藝條件下所生成膜的密度或孔隙度考慮在內，即： K = 1.57η/γ 式中η為電流效率（電極上實際析出的物質量與又總電量換算出的析出物質量之比）。K實值各國取值大小各異，美國有取0.328、0.285-0.355，日本有取0.352、0.364、0.25，中國、俄羅斯取0.25。 ★影響氧化膜生長和質量的因素 當電解液的溫度從 20度上升到30度，膜的溶解速度約增加3倍。隨電流密度的增加，制品被養(yǎng)護的金屬量、表面生成的鋁氧化膜厚度都隨著增加。琉酸濃度對氧化膜厚度的影響不大，為獲得中等厚度、多孔而易于著色和封閉、抗蝕性較高的膜層，濃度至好為15%-20%；流質用去離子水要求氯離子

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