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光刻機(jī)?性能指標(biāo)及分類—上海庫(kù)存芯片回收

光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光係統(tǒng)，光刻係統(tǒng)等，是製造芯片的核心裝備。它採(cǎi)用類似照片沖印的技術(shù)，（庫(kù)存IC芯片回收）把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印製到矽片上。

光刻機(jī)?性能指標(biāo)——庫(kù)存芯片回收公司小編來爲(wèi)大傢娓娓道來：

1.

光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸範(fàn)圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生産效率等。

2.

分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的至細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限製,所以與光源、光刻係統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方麵的限製。

3.

對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。

4.

曝光方式分爲(wèi)接觸接近式、投影式和直寫式。

5.

曝光光源波長(zhǎng)分爲(wèi)紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有銾燈，準(zhǔn)分子激光器等。

光刻機(jī)?分類：

A 手動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita觮度來完成對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不髙瞭；

B 半自動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧；

C 自動(dòng)：指的是從基闆的上載分享，曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過程序控製，自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)於處理量的需要。

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