[產(chǎn)品庫(kù)]主題： 磁控濺射原理及主要用途——蘇州磁 ... 發(fā)佈者： 蘇州磁控濺射廠傢
10/19/2022
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磁控濺射原理及主要用途——蘇州磁控濺射廠傢
磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離産生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下變化飛向陰極靶，並以髙能量轟擊靶錶麵，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而産生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，産生E（電場(chǎng)）×B（磁場(chǎng)）所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似於一條擺線。若爲(wèi)環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶錶麵做圓週運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶錶麵的等離子體區(qū)域內(nèi)，並且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)瞭髙的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶錶麵，並在電場(chǎng)E的作用下至終沉積在基片上。由於該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，緻使基片溫昇較低。
磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)曆複雜的散射過(guò)程，和靶原子碰撞，把部分動(dòng)量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些錶麵附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量，離開靶被濺射出來(lái)。
磁控濺射主要用途——蘇州磁控濺射廠傢小編來(lái)爲(wèi)大傢娓娓道來(lái)：
1.
各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化矽減反射膜，以提髙太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
2.
裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機(jī)外殼，鼠標(biāo)等。
3.
在微電子領(lǐng)域作爲(wèi)一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機(jī)
4.
化學(xué)氣相沉積（CVD）生長(zhǎng)困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大麵積非常均勻的薄膜。
5.
在光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉闔場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方麵得到應(yīng)用。特別是透明導(dǎo)電玻璃廣氾應(yīng)用於平闆顯示器件、太陽(yáng)能電池、微波與射頻阻蔽裝置與器件、傳感器等。
6.
在機(jī)械加工行業(yè)中，錶麵功能膜、超硬膜，自潤(rùn)滑薄膜的錶麵沉積技術(shù)自問(wèn)世以來(lái)得到長(zhǎng)足發(fā)展，能有效的提髙錶麵硬度、複闔韌性、耐磨損性和抗髙溫化學(xué)穩(wěn)定性能，從而大幅度地提髙塗層産品的使用壽命。
編輯：離子束刻蝕-蘇州聚圖半導(dǎo)體 http://www.szjtnano.com/?
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最後更新: 2022-10-19 11:49:15
